САН-ХОСЕ, Калифория, 26 февраля (Рейтер) — Литографическая установка следующего поколения от ASML Holding достигла готовности к использованию в массовом производстве микрочипов, сообщил один из руководителей компании. Этот шаг является значимой вехой для глобальной полупроводниковой индустрии. ASML, единственный производитель коммерческих фотолитографических установок в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV), разрабатывает оборудование, которое позволит таким компаниям, как Taiwan Semiconductor Manufacturing и Intel, создавать более мощные и энергоэффективные чипы.
Ожидается, что ASML официально представит эту новинку на конференции в Сан-Хосе в четверг, согласно заявлению CTO Марко Питерса. Новая установка High-NA EUV будет иметь ключевое значение для отрасли, так как действующее поколение оборудования подходит к пределу своих возможностей в производстве сложных чипов для искусственного интеллекта. Новые установки, стоимостью около $400 миллионов, возникнут в условиях растущего спроса на технологии ИИ, включая чат-боты, такие как ChatGPT от OpenAI.